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半導體特性決定其制造過程應該有潔凈度要求，環(huán)境中雜質(zhì)對半導體的特性有著改變或破壞其性能的作用，所以在半導體器件生產(chǎn)過程中對什么都應該嚴格控制，雜質(zhì)各式各樣，如金屬離子會破壞半導體器件的導電性能，灰塵粒子破壞半導體器件的表面結構等。半導體、電子無塵潔凈廠房有其特殊施工要求，下面山東盛之源凈化設備有限公司就其特點作些經(jīng)驗交流。

了解下半導體器件生產(chǎn)環(huán)境要求，其生產(chǎn)條件除了要求恒溫恒濕外，對生產(chǎn)環(huán)境潔凈度要求很嚴，按單位體積重規(guī)定的塵埃粒子數(shù)標準分成潔凈度的等級。一般分為：10級、100級、1000級、10000級、100000級，**標準IOS14644-1、國標GB50073-2013、美聯(lián)邦標準中均有規(guī)定潔凈室和潔凈區(qū)內(nèi)空氣以大于或等于被考慮粒徑的粒子**大濃度限值進行劃分的等級標準。

電子產(chǎn)品性能、質(zhì)量的提高和生產(chǎn)過程的微細化，日益要求生產(chǎn)環(huán)境具有一定的空氣潔凈度**和控制凈化車間內(nèi)工藝生產(chǎn)所需的各類高純物質(zhì)的供給質(zhì)量，目前國內(nèi)外還沒有統(tǒng)一電子產(chǎn)品的空氣潔凈度等級或生產(chǎn)環(huán)境控制要求的統(tǒng)一規(guī)定，各種電子產(chǎn)品的生產(chǎn)廠家依據(jù)其生產(chǎn)的產(chǎn)品品種、所采用的生產(chǎn)工藝技術、生產(chǎn)工藝設備、生產(chǎn)用原輔料以及凈化車間運行的實踐經(jīng)驗確定設計建造凈化車間的空氣潔凈度**等級(如下表格)。